我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相
IT之家 11 月 8 日消息，第九届中国国际进口博览会于 11 月 5 日在国家会展中心（上海）开幕。 本次展会上，上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称 SMEE）携自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型正式亮相， 展示我国前道光刻装备自主化
关键词：科技
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